新型真空電弧精煉爐
介紹了老式真空電弧爐VHD 和奧地利英特科(Inteco)特種冶煉技術(shù)公司最近設(shè)計(jì)的新型真空電弧精煉爐VAD 系統(tǒng)。新系統(tǒng)在設(shè)備利用率方面和煉鋼質(zhì)量方面,同當(dāng)前廣泛應(yīng)用的LF- VD 爐相比,各項(xiàng)指標(biāo)均超過后者,具有無比的優(yōu)越性。
真空電弧精煉脫氣(VHD)技術(shù)早在40 年前就開始用來熔煉合金鋼。為什么今天還要進(jìn)行研制開發(fā)它呢?真空技術(shù)網(wǎng)(http://m.mp99x.cn/)認(rèn)為這是因?yàn)樵缙诘腣HD 設(shè)備已經(jīng)不能滿足當(dāng)前航空航天技術(shù)的要求,而且普遍被LF 爐加上VD 爐所代替。奧地利英特科特種冶煉技術(shù)公司最近設(shè)計(jì)的新型VAD 系統(tǒng)在設(shè)備簡化方面和煉鋼質(zhì)量方面,均優(yōu)于當(dāng)前廣泛應(yīng)用的LF+VD 爐,而且用1 臺(tái)VAD 設(shè)備能夠完成LF 和VD 兩臺(tái)爐子的任務(wù),這是在LF 爐加VD 爐的基礎(chǔ)上又邁上了一個(gè)新的臺(tái)階。
1、傳統(tǒng)真空電弧精煉脫氣爐
傳統(tǒng)的真空電弧精煉脫氣爐(VHD)是美國人A. Finkl & Sons 于1964 年開始開發(fā)的,之后不斷地進(jìn)行試驗(yàn)研究,并于1970 年獲得了美國專利。VHD 設(shè)備在世界上廣泛應(yīng)用的年代是從1970 年到1990 年。在那時(shí)候,VHD 工藝能夠完全滿足特鋼廠對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的要求和處理效果。傳統(tǒng)的真空電弧精煉爐VHD 原理示意圖示于圖1。
圖1 傳統(tǒng)真空電弧精煉爐原理示意圖
最近20 年來,為什么特鋼廠對(duì)VHD 設(shè)備不感興趣了呢?這是由于40 年前設(shè)計(jì)的VHD 設(shè)備已經(jīng)不能滿足現(xiàn)代化熔煉特殊鋼的要求,以及近20 年來, 出現(xiàn)了鋼包精煉爐和真空脫氣裝置(LF+VD),該種工藝流程目前在國內(nèi)外廣泛應(yīng)用,但是其缺點(diǎn)是電弧加熱和真空脫氣需要在2個(gè)設(shè)備中進(jìn)行,如圖2 所示。
圖2 EAF-LF-VD 冶煉工藝路線
2、VAD 工藝路線和優(yōu)越性
奧地利英特科特種冶煉技術(shù)公司最近開發(fā)出將LF 爐和VD 爐合二為一的現(xiàn)代化的新型電弧加熱真空電弧精煉爐(VAD),以下簡稱VAD設(shè)備。
圖3 示出了EAF-VAD 工藝路線和EAF-LF-VD工藝路線對(duì)比方框圖。圖中右側(cè)是目前廣泛應(yīng)用的EAF-LF-VD 工藝路線;左側(cè)是英特科特種冶煉技術(shù)公司最近開發(fā)的EAF-VAD 工藝路線。即用一臺(tái)VAD 爐子代替兩臺(tái)LF-VD 爐子,而且煉出的鋼還優(yōu)于LF+VD 爐的質(zhì)量。
EAF- 電弧爐,LF- 鋼包精煉爐,VD- 真空脫氣裝置,VAD- 新型真空電弧精煉爐,CCM- 連鑄機(jī)
圖3 EAF-VAD 工藝路線和EAF-LF-VD 工藝路線對(duì)比
VAD 能夠提供多種冶金工藝程序。冶金工藝程序的選擇取決于冶金目標(biāo)和設(shè)備的先決條件。VAD 爐的適用范圍為15~200 t。集加熱、脫氣、渣處理和合金調(diào)整都是在真空狀態(tài)下連續(xù)進(jìn)行的。同蒸汽噴射真空泵相結(jié)合的完全封閉式處理站提供出對(duì)環(huán)境完全沒有污染的解決方案。VAD 工藝若同其它爐外冶金工藝相比,在真空狀態(tài)下進(jìn)行電弧加熱具有以下優(yōu)點(diǎn):
a)低的出鋼溫度,因而鋼包包襯的壽命長;
b)在真空狀態(tài)下能夠添加大量合金劑,因而能熔煉高級(jí)合金鋼;
c)短的出鋼到出鋼時(shí)間,因而提高了設(shè)備生產(chǎn)率和降低了生產(chǎn)成本;
d) 在真空狀態(tài)下進(jìn)行脫氣處理,能夠達(dá)到最低的氣體含量;
e)在真空電弧加熱狀態(tài)下,只要需要,鋼水在鋼包中,可停留任意長的時(shí)間,比如,如果下級(jí)連鑄機(jī)出故障,等待任意長的時(shí)間都沒有問題。
3、VAD 工藝概述
液態(tài)鋼水通過前級(jí)電弧爐出鋼槽,允許接觸空氣以500~800 mm 凈空距離,倒進(jìn)鋼包中。然后,車間吊車將該鋼包運(yùn)送到真空容器中。該真空容器由升降架子上的3 個(gè)液壓缸支撐。再把真空容器蓋放到真空容器連接法蘭上。在真空容器蓋的中央部位安裝有3 個(gè)被動(dòng)態(tài)密封的可以升降的電極,在真空容器內(nèi)依靠多級(jí)蒸汽噴射真空泵抽真空(采用機(jī)械真空泵也可以)。在真空脫氣處理時(shí),惰性氣體(比如氬氣或氮?dú)?通過鋼包底吹入熔池中,以保證液態(tài)金屬的攪拌、循環(huán)。3根電極被調(diào)整在鋼液上方對(duì)于燃弧的合適位置,電極的電氣回路是閉合回路。
石墨電極被安裝在真空密封伸縮管裝置中。電極和熔池表面之間的距離通常不需要經(jīng)常調(diào)整,這是由于在真空狀態(tài)下,電弧長度能在長時(shí)間內(nèi)保持不變。電極既不接觸鋼液面或渣面,也不像在大氣中易被氧化,所以大大減少了電極消耗。在真空室內(nèi),電弧的上方有一層屏蔽層,以防止電弧熱量輻射爐蓋,以及為了減少熱損失。加到熔池表面的電弧能量將爐渣吹到旁邊。這樣一來,氣體很容易從熔池中逸出。精煉處理是連續(xù)的,一直到達(dá)到冶金要求及達(dá)到希望的氣體含量為止。進(jìn)一步開發(fā)真空電弧加熱系統(tǒng)是鋼包精煉的另一個(gè)重要步驟。在真空狀態(tài)下可以連續(xù)行加熱,不受時(shí)間限制,這就使得鋼廠能充分利用真空冶煉所提供的所有優(yōu)點(diǎn)。
4、VAD 設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造
VAD 設(shè)備的設(shè)計(jì)受到許多因素的制約,因此最重要問題是周圍生產(chǎn)環(huán)境、設(shè)備布置、材料物流和設(shè)備利用率等。首先,新設(shè)備要布置到已有車間內(nèi),因此其鋼包尺寸、車間立柱跨距、天車高度等都是限制VAD 設(shè)備布置的主要因素。第二,該設(shè)備要與原有設(shè)備的工序和物流輸送邏輯相適應(yīng),即在設(shè)計(jì)該設(shè)備時(shí),需了解上級(jí)工序操作循環(huán)時(shí)間和下級(jí)工序操作循環(huán)時(shí)間。另外,在設(shè)備設(shè)計(jì)時(shí)還要考慮設(shè)備的利用率,即機(jī)械設(shè)備和電氣設(shè)備要得到充分利用。
4.1、真空容器運(yùn)輸系統(tǒng)
真空容器運(yùn)輸系統(tǒng)適用于鋼水處理站位于車間天車范圍之外的場(chǎng)合。車間天車將鋼包放到真空容器內(nèi)的鋼包支架上。然后真空容器移動(dòng)車被放到真空容器蓋的下方,真空容器蓋下降到裝有真空密封的真空容器法蘭上。真空容器移動(dòng)車的設(shè)計(jì)需要同鋼包尺寸相適應(yīng)。
6、結(jié)論
(1)奧地利英特科特種冶煉技術(shù)公司最近推出了技術(shù)- 經(jīng)濟(jì)指標(biāo)高超的VAD 系統(tǒng),該系統(tǒng)在煉鋼質(zhì)量、冶金效果、各項(xiàng)指標(biāo)均優(yōu)于目國內(nèi)外廣泛應(yīng)用的LF-VD 爐。
(2)綜上所述,新型VAD 系統(tǒng),從設(shè)備創(chuàng)新的角度來看,具有重大技術(shù)突破,具有劃時(shí)代意義。因此可以說,將來的發(fā)展趨勢(shì)是完全有可能用一臺(tái)新型VAD 爐代替兩臺(tái)LF 爐和VD 爐。